据悉，在华为芯片被断供后，中国国产芯片的弊端暴露无遗，为实现国产芯片自主化，尽快摆脱芯片制造产业上的短板，9月16日，中科院白院长在“率先行动”进展通报会上正式宣布，将会入局光刻机产业，未来将集中全院的力量来攻克光刻机、关键原材料等被西方卡脖子的问题，同时将起到带头模范作用，带动相关企业共同进步。
近日，中国企业利好消息也是频频传来：先是有晶瑞股份宣布已从SK海力士购买到一台ASML光刻机，用于本公司光刻机产品的研发；后有英唐智控以100%收购股权的方式完成对日本先锋微技术公司的控股，将5台光刻机正式纳入囊中。在此态势下，全球光刻机市场垄断局面将被打破，我国在国际市场上将占据一席之地。
光刻机，又称掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统，是制造芯片与半导体的核心装备，其工艺水平决定了半导体线路的线宽，同时也决定了芯片的性能和功耗。其产品按有无掩模可分为有掩模光刻机和无掩模光刻机两大类。
光刻机产品分类（按有无掩模分类）
资料来源：公开资料整理
据悉，目前我国已成为芯片消费大国，而芯片制造所需的关键设备—光刻机，我国却一时难以突破，还是只得依靠进口。从销售额来看，数据显示，目前全球光刻机市场主要由荷兰的ASML、日本的尼康和佳能占据主动权，呈三足鼎立局面。其中，在2019年全球光刻机市场竞争格局中，荷兰ASML公司市场份额占比最大。
2019年全球光刻机市场竞争格局
数据来源：公开资料整理
从销售量来看，2014-2018年，全球光刻机Top3企业销售量呈现波动增长的态势,2019年有所下滑，销售量为354台，同比下降3.8%。截止到2020年Q1，全球Top3企业销售量实现85台。
2014-2020年Q1光刻机Top3企业销售量（单位：台）
数据来源：企业公报
目前，市场上销售的光刻机主要产品分为五大类：EUV光刻机、ArF lm光刻机、ArF Dry光刻机、KrF光刻机和i-line光刻机。其中，i-line光刻机出货最多。数据显示，2019年在上述五类光刻机产品销售量情况中，i-line光刻机出货量为116台，在这116台中，Canon公司贡献了一半以上。
2019年光刻机Top3企业各类产品销售量
数据来源：企业公报
长期以来，我国的光刻技术落后于先进国家，但在政策驱动下，行业相关企业正在加快研发进度。目前，在我国光刻机市场中，上海微电子(SMEE)一枝独秀，成为最有竞争优势的企业。
2020年6月初，上海微电子宣布将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产浸入式光刻机，预示着国产光刻机有望从此前的90nm工艺一举突破到28nm工艺。随着技术水平的不断提高，我国光刻机市场竞争力也将得到增强。
而随着中科院的入局以及国内企业利好消息频传，甚至日媒方面也传来消息，我国有计划与尼康合作开发光刻机技术，未来我国或许将会成为第三个能制造主流光刻机的玩家。
