专利号：TW 1437936                        申请人：欣兴电子股份有限公司

发明人：曾子章； 陈宗源                    地  址：桃园县桃园市龟山工业园兴邦路38号

    摘要：一种湿式蚀刻设备，系包括：机台，系具有用以储存流体之容置空间；至少一供应件，系设于该机台上，且该供应件具有贯穿之供应道，该供应道系连通该机台之容置空间，以令该容置空间中之流体经该供应道移至该机台外；以及调整件，系具有相邻之通道与回收道，该通道用以容置该供应件，该回收道之端口与该通道之端口具有高度差，且该回收道之端口位于该通道之端口下方，以使流经该供应件之流体由该通道输出，且该回收道系连通该机台之容置空间。