台湾“国家”实验研究院仪科中心、晶元电子和均华精密机
发布时间:2016年09月12日

台湾“国家”实验研究院仪科中心、晶元电子和均华精密机械合作开发晶片瑕疵检测设备


近年来,智慧手持与穿戴装置普及且技术趋向成熟,对IC检测精密度与效能要求随之提高。然而目前市场上晶片瑕疵检测系统主要来自日、德,且受限于光学取像方式和解析度问题,在生产过程中大多依靠人工以显微镜来检测晶片的背面与边缘瑕疵。台湾半导体业发达,因应半导体业对IC检测的需求,台湾“国家”实验研究院仪科中心与均华精密机械共同合作开发“高性能线阵列晶片瑕疵取像检测模组”,大幅提振效能,提高正确率逾99%,提升晶片品质控管。此机台模组主要用于DRIVERIC生产,目前已销售给台积电、三星等厂商。此外,仪科中心还为晶元电子定制开发LED晶片瑕疵检测设备,以高解析光机装置取得晶片影像,进行影像萃取与瑕疵检测,完成全晶圆影像地图,进行LED晶片边缘崩缺及电极断线等精密检测,为台湾LED产业自制本土产检测机台开创新页。